1.设备名称：3D生物打印机

型号：Nanoscribe GT

技术指标：（1）加工参数：压电扫描范围300 μm × 300 μm × 300 μm，横向分辨率200 nm。

（2）激光参数：激光中心波长780 nm，输出平均功率180 mW，峰值功率25 kW，脉冲时长100 fs，重复频率80 MHz。

简要说明：基于激光直写技术可制备2D、2.5D和3D聚合物结构，用于微观结构力学、分形材料、微流控、MEMS、光学、电磁超结构、微组织支架等领域。

产地：德国

安装地址：东南大学四牌楼逸夫科技馆北101

2.设备名称：掩模对准器

型号：MA6

技术指标：光源波长：365nm——436nm

最小线宽：0.8um；套准精度：±0.5um

最小曝光时间：0.1s

样品尺寸：碎片（如1cm、2cm等小尺寸）、2-4英寸

曝光模式：硬接触模式、真空接触模式、低真空接触模式、软接触模式、接近式接触模式

对准模式：正面对准。

简要说明：采用紫外光源，实现光刻胶的曝光，将光刻版上的图形转移到光刻胶上，在光刻胶上制作出亚微米（＞0.8um）图形结构。紫外光刻系统是目前实验室光刻技术中最为常用和重要的光刻设备。

产地：德国

安装地址：东南大学国家大学科技园四号楼101室

3.设备名称：反应离子刻蚀

型号：Etchlab 200

技术指标：RIE源功率：0 - 600 W；刻蚀均匀性：±5% （4英寸 ）

装片：一片10英寸，向下兼容任意规格样品

刻蚀气体：SF₆，CF₄，CHF₃，Ar，O₂

简要说明：主要用于硅及其化合物、有机物的刻蚀。广泛应用于物理，生物，化学，材料，电子等领域。

产地：德国

安装地址：东南大学国家大学科技园四号楼101室

4.设备名称：电子束蒸发镀膜仪

型号：DE400

技术指标：蒸镀薄膜种类：Au, Ti, Ag, Cu等金属

极限真空：1E^-8 Torr

薄膜均匀性：±4% （4英寸 ）

装片：小于6英寸的任意规格的样品若干

简要说明：可在高真空下蒸发不同厚度的各种金属与氧化物薄膜。广泛应用于物理，生物，化学，材料，电子等领域。

产地：香港

安装地址：东南大学国家大学科技园四号楼101室